主 旨: 本部科技艺术创作发展补助自即日起征求114年度创作计画,收件截止日至113年10月31日止,申请方式如说明,请协助宣传周知。
说 明:
一、 本部为鼓励科技艺术创作,发展具实验性及文化内涵之原创作品,整合跨界资源,参与国际展演合作,以提增台湾科技艺术发展优势,特订定「文化部科技艺术创作发展补助作业要点」。
二、 补助内容:
(一)以艺术为核心,结合科技技术艺术趋势,发展跨域合作之台湾原创作品,具有国际展演合作、参与具指标性国际艺术节、国际竞赛、国际网络经营等科技艺术计画。
(二)运用技术及呈现方式以互动式、感测、动态捕捉、体感、机械、沉浸式投影或声音、人工智慧或复合式内容体验等之视觉、表演艺术创作。
三、 申请资格:
(一)个人:领有中华民国国民身分证之艺术创作者。
(二)团体:依中华民国法律设立、登记或经我国政府核准立案之行政法人、财团法人、社团法人、演艺团体及大专院校等组织或团体。
四、 受理期间:即日起开放线上申请,截止时间至113年10月31日23时59分止,受理114年度(或至115年度)办理之科技艺术计画。
五、 申请及相关说明请至文化部奖补助资讯网(https://gov.tw/L4v),或洽询本部艺术发展司推广科简小姐(电话02-8512-6544、电邮cyt@moc.gov.tw)。